School of Microelectronics
and Solid-State Electronics
第三章
多指标问题及正交表在试验设计中的灵活运用
Ø
电沉积的最佳工艺水平
:
–
镀速
:E5A5C4D2F5B4
–
光亮度
:A4C5(B4D2F2)E4
Ø
分析顺序：
A>E>C>D>F>B
Ø
综合两个指标后
,
得出最佳工艺水平为
:
–
A4B4C4D2E5F4
–
A4B4C4D2E5F5
亦可
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